O Departamento de Comércio dos Estados Unidos levantou a possibilidade de que uma máquina de litografia ultravioleta extrema (EUV) da ASML tenha chegado à China, apesar de restrições de exportação impostas desde 2018. A informação foi relatada pela agência Bloomberg, que cita reuniões recentes entre o secretário de Comércio norte-americano, Howard Lutnick, e executivos da fabricante holandesa.
Segundo fontes governamentais ouvidas pela Bloomberg, há indícios de que componentes e equipamentos de transporte ligados a um sistema EUV teriam sido enviados ao território chinês. Até o momento, esse suposto material não foi apresentado publicamente nem mostrado à própria ASML. Questionado, o Departamento de Comércio não comentou se possui prova concreta da presença de um equipamento completo em solo chinês.
Empresa rejeita a acusação
A ASML afirma que nenhum sistema EUV foi entregue, instalado ou operado na China. O presidente-executivo da companhia, Christophe Fouquet, declarou em entrevista realizada seis semanas antes da denúncia que todos os equipamentos são rastreados: ou estão em utilização por clientes monitorados ou foram desmontados e retornados à sede.
Fouquet acrescentou que os funcionários na China não têm acesso a documentação ou treinamento ligados à tecnologia EUV e que o desenvolvimento do equipamento levou duas décadas, dificultando qualquer tentativa de engenharia reversa.
Importância estratégica
A ASML é a única fornecedora mundial de máquinas EUV, essenciais para produzir os chips mais avançados fabricados por empresas como TSMC, responsável por processadores da Nvidia e da Apple. Com essa posição monopolista, a companhia tornou-se a empresa de capital aberto mais valiosa da Europa, avaliada em cerca de US$ 700 bilhões nesta semana.
Uma violação do controle de exportação seria considerada grave por Washington, que busca conter o acesso de Pequim a semicondutores de última geração com potencial de uso militar.
Imagem: Getty
Disputa comercial e novos concorrentes
Em 2023, o Departamento de Comércio anunciou até US$ 150 milhões para a startup xLight, que desenvolve uma fonte de luz de próxima geração vista como complementar ou potencial concorrente da tecnologia da ASML. Outra iniciativa, a Substrate, apoiada por Peter Thiel, também trabalha em alternativas ao EUV.
Paralelamente, um projeto de lei bipartidário que tramita no Congresso pretende proibir não apenas o EUV, mas todas as máquinas de litografia ultravioleta profunda (DUV) da ASML destinadas à China. Esses equipamentos, de geração anterior, respondem por cerca de 20% da receita projetada da empresa para 2026. O texto foi aprovado em comissão em abril; o governo Trump ainda não se posicionou oficialmente.
Até a divulgação de provas pelo governo dos EUA, permanece sem confirmação se algum sistema EUV da ASML alcançou ou não o mercado chinês.
Com informações de TechCrunch
