Lixa nanométrica de nanotubos de carbono alisa chips com precisão atômica

Pesquisadores do Instituto Avançado de Ciência e Tecnologia da Coreia (KAIST) desenvolveram uma “lixa” feita com nanotubos de carbono capaz de nivelar superfícies de semicondutores até a espessura de poucos átomos. O estudo, liderado pelo professor Sanha Kim, foi divulgado em 11 de fevereiro de 2026 na revista Advanced Composites and Hybrid Materials.

A nova ferramenta substitui o polimento químico-mecânico (CMP) tradicional, que utiliza pastas abrasivas líquidas e gera grandes volumes de resíduos. Ao fixar vertiginosamente (vertical alignment) os nanotubos em uma matriz de poliuretano e expor parcialmente suas pontas, os cientistas criaram um abrasivo estável que não se desprende durante o uso.

Como funciona

— O arranjo conta com densidade de grãos superior a 1 bilhão de partículas por polegada quadrada, aproximadamente 500 mil vezes maior que a lixa comercial mais fina disponível.

— Cada nanotubo mede cerca de 4 nm de diâmetro, permitindo desbaste uniforme na escala de nanômetros.

— A resistência mecânica dos nanotubos supera em mais de dez vezes a de abrasivos convencionais, como óxido de alumínio e diamante.

Resultados obtidos

Nos testes, uma superfície de cobre com rugosidade média de 19,5 nm foi polida até 2,3 nm. Em wafers de semicondutores, o processo reduziu em 67 % os defeitos de “dishing” — rebaixamento indesejado no centro das linhas de interconexão que compromete memória de alta largura de banda (HBM) e outros dispositivos avançados.

Lixa nanométrica de nanotubos de carbono alisa chips com precisão atômica - Imagem do artigo original

Imagem: Internet

Impacto ambiental e aplicações

Como os abrasivos permanecem fixos na “lixa”, não há necessidade de fornecer constantemente lama química, eliminando etapas de limpeza e descartes. A equipe projeta uso da técnica em processos de planarização para HBM, servidores de inteligência artificial e em ligações híbridas, apontadas como solução de interconexão de próxima geração.

Para o professor Kim, o trabalho mostra que “um conceito cotidiano, como a lixa, pode ser levado ao nanômetro e aplicado à fabricação ultra-fina de semicondutores”, devendo contribuir para chips mais eficientes e produção menos poluente.

Com informações de Nanowerk News

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