Pesquisadores da Universidade Nacional de Chungnam, na República da Coreia, apresentaram um novo método de fabricação de eletrodos transparentes de grafeno que dispensa etapas de corrosão química e uso de fotorresistes. A técnica, batizada de one-step free patterning of graphene (OFP-G), permite desenhar padrões em filmes de grafeno de camada única com larguras inferiores a 5 micrômetros e alta fidelidade, preservando a condutividade elétrica.
O trabalho, liderado pelo professor Wonsuk Jung, foi publicado on-line em 26 de janeiro de 2026 na revista Microsystems & Nanoengineering. Segundo os autores, o processo resolve um dos principais problemas da fotolitografia convencional, que costuma danificar o grafeno e aumentar sua resistência elétrica.
Como funciona o OFP-G
No método desenvolvido, o grafeno obtido por deposição química a vapor (CVD) é transferido para um substrato de dióxido de silício e colocado em contato com um vidro previamente gravado, que define o desenho final. Sob vácuo, a 380 °C e com aplicação de 1.000 V, o vidro torna-se um eletrólito sólido condutor: íons alcalinos migram e geram regiões ricas em oxigênio na interface com o grafeno. Nessas áreas, ligações carbono-carbono são convertidas em ligações carbono-oxigênio, criando um padrão preciso sem remover material em excesso.
Como não há contato com fotorresistes nem polímeros de transferência, a superfície do grafeno permanece limpa. A temperatura elevada também elimina resíduos de etapas anteriores, resultando em padrões de alta qualidade confirmados por espectroscopia Raman, espectroscopia de fotoelétrons por raios X e simulações de dinâmica molecular.
Resultados elétricos
Medidas mostraram que canais de grafeno com 5 µm e 20 µm de largura apresentaram resistências de, respectivamente, 11,5 Ω e 9,4 Ω. Amostras produzidas por fotolitografia tradicional exibiram condutividade praticamente nula, indicando danos significativos à estrutura do material.
Imagem: Internet
Por evitar completamente contaminantes, o OFP-G é apontado como promissor para dispositivos que exigem superfícies limpas, como biossensores, interfaces neurais e eletrônicos flexíveis ou transparentes. A equipe destaca a possibilidade de escalar o processo para grandes áreas, o que pode acelerar a integração do grafeno em aplicações de saúde, energia e tecnologia vestível.
Com informações de Nanowerk
