Pesquisadores da Harbin Institute of Technology, na China, desenvolveram um processo que permite depositar filmes metálicos transparentes de apenas 10 nanômetros em superfícies curvas, mantendo até 88% de transmissão de luz e baixa resistência elétrica de 8,1 Ω/□. O avanço foi descrito em artigo publicado em 10 de fevereiro de 2026 no International Journal of Extreme Manufacturing.
A inovação resolve um entrave de longa data para dispositivos optoeletrônicos curvos, como displays flexíveis e óculos inteligentes. Em painéis planos já é possível fabricar eletrodos transparentes com precisão; contudo, quando o substrato apresenta curvas, os filmes tendem a ficar irregulares, comprometendo a condução elétrica e a transparência.
Como funciona o método
O grupo liderado pelos professores Heyan Wang e Zhengang Lu adotou a técnica de co-sputtering, comum na indústria, mas introduziu um modelo de deposição batizado de multi-angle co-velocity fitting. Nesse sistema, alvos metálicos se movem em trajetórias e velocidades controladas, permitindo que camadas ligeiramente não uniformes se combinem e resultem em um revestimento globalmente homogêneo, mesmo em superfícies esféricas, cilíndricas ou de geometria irregular.
Para evitar que o filme de prata se fragmentasse — problema típico em espessuras tão pequenas —, os cientistas acrescentaram pequenas quantidades de alumínio durante a deposição. Simulações computacionais indicam que o co-doping facilita a distribuição uniforme dos átomos, formando uma película contínua em vez de ilhas metálicas.
Resultados e aplicações
Testes mostraram que os eletrodos curvos produzidos pelo novo processo atingem desempenho equivalente aos melhores filmes planos, com alta transparência no espectro visível e resistência elétrica reduzida. A equipe também demonstrou aplicações práticas, entre elas blindagem eletromagnética transparente, revestimentos decorativos sem pigmento e camadas funcionais para lentes anti-embaçamento e filtro ultravioleta.
Imagem: Internet
Segundo os autores, o método pode ser adaptado a outros metais e dieletricos ópticos e é compatível com equipamentos de sputtering já utilizados na fabricação em escala. O próximo passo é ampliar a técnica para áreas maiores e geometrias ainda mais complexas.
Com informações de Nanowerk
